金属Cr的性子？

铬（Cr）是一种在元素周期表中位于第六副族的过渡金属。

物理性子

外不雅观：铬是一种有光泽、银白色的金属。
密度：约为7.19g/cm3。
熔点：大约为1907°C。
沸点：约为2671°C。
硬度：铬是一种非常硬的金属。
铬（Cr）>钛（Ti）>镍（Ni）>铜（Cu）电导性：银（Ag）>铜（Cu）>铝（Al）>钨（W）>铬（Cr）>镍（Ni）磁性：在室温下，无磁性。

化学性子

铬对氧化的抵抗性非常强，能够在表面形成一层稳定的氧化铬（Cr2O3），这层薄膜可以防止进一步的堕落。

金属Cr在半导体中的运用

掩膜版

在光刻过程中，铬被用作掩膜版的关键材料。
铬在紫外光下表现出高光学密度，可以有效阻挡光芒。
在石英基板上通过PVD等方法均匀地沉积一层薄的铬，在其上涂覆一层光刻胶，再利用电子束光刻，显影，在光刻胶上做出预期的图形，之后进行Cr的刻蚀，末了去除光刻胶，即可得到掩膜版。

扩散阻挡层

在多层半导体构造中，不同材料层之间可能会发生原子扩散，特殊是在高温加工过程中。
铬作为扩散阻挡层，常日很薄，足以阻挡金属原子的扩散，防止金属离子污染硅基底或改变介电层的导电性。

导电层

铬由于其良好的导电性和稳定性，当在高温或须要黏附性较好的场景，常日可以选择镀Cr。

如何丈量Cr薄膜的厚度？

椭偏仪

椭圆仪是一种非打仗、非毁坏性的丈量技能，用于丈量薄膜的厚度和光学性子的机台。
一样平常常用来丈量介质厚度或折射率，但是由于Cr的厚度较薄，一样平常在几十纳米旁边，因此可以丈量非常薄的Cr薄膜。

X射线荧光光谱（XRF）

XRF技能的基本事理是通过射线引发样品中的原子，这些原子在返回基态时会发出特定能量的X射线荧光，这些荧光可以用来识别和定量样品中的元素。
XRF是一种非打仗、非毁坏性的丈量方法，适用于在线监控。

AFM

AFM不仅可以用来丈量粗糙度，也可以用来丈量高度差，一样平常情形下用来测粗糙度的场景更多。

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